JULABO溫度控制器可以減少生產時間

半導體(ti)生產中的(de)(de)許多(duo)工(gong)(gong)藝都必須精確控制溫度(du)。在幾乎無(wu)限個(ge)單獨的(de)(de)步驟中，應(ying)(ying)用(yong)(yong)(yong)極(ji)薄的(de)(de)層，部分遮蓋，并(bing)以(yi)絕對(dui)精度(du)去除未遮蔽的(de)(de)部件。蝕刻槽必須保持(chi)在最佳溫度(du)范(fan)圍內(nei)，以(yi)保持(chi)濕化學工(gong)(gong)藝中的(de)(de)蝕刻速(su)率恒定和可(ke)預測。這(zhe)需要(yao)使用(yong)(yong)(yong)絕對(dui)精確和可(ke)靠(kao)的(de)(de)溫度(du)控制解決(jue)方案(an)，這(zhe)些(xie)解決(jue)方案(an)針(zhen)對(dui)各自的(de)(de)應(ying)(ying)用(yong)(yong)(yong)領域(yu)進行了理想的(de)(de)校準。

平衡(heng)的溫度(du)控制系統不僅可以(yi)改(gai)善(shan)生(sheng)產(chan)(chan)結果，還可以(yi)提高過程(cheng)可靠性并減少生(sheng)產(chan)(chan)時間、成本(ben)和(he)維護。

看起來像堡壘的(de)導電路徑的(de)生產需要納米范圍(wei)內的(de)絕對(dui)精度(du)。

蝕刻速率(lv)（每次材料去(qu)除(chu)率(lv)）必須知道(dao)最小的細(xi)節，沈(shen)陽(yang)漢(han)達森yyds吳亞男并盡可(ke)能長時間地保持恒定(ding)，以(yi)實現納米范圍內(nei)的精度(du)。此外，反(fan)應產物必須立即(ji)溶解，以(yi)免污染(ran)蝕刻液。

由于反(fan)(fan)應(ying)伙伴溶(rong)解(jie)在蝕(shi)刻液中，其(qi)濃度(du)也隨著加(jia)工晶(jing)片數量(liang)的(de)增加(jia)而降(jiang)低，這就是為什么(me)必須定期更換的(de)原因(yin)(yin)。除了濃度(du)之外，蝕(shi)刻槽(cao)的(de)溫(wen)度(du)尤其(qi)對蝕(shi)刻速率(lv)有直(zhi)接影響(xiang)，因(yin)(yin)為隨著溫(wen)度(du)的(de)升(sheng)高，化學(xue)溶(rong)液通常會(hui)變(bian)得更加(jia)反(fan)(fan)應(ying)。此外，溫(wen)度(du)會(hui)影響(xiang)反(fan)(fan)應(ying)產物的(de)溶(rong)解(jie)速度(du)。

JULABO型號(hao)

CORIO CD-200F

恒溫(wen)器 PRESTO W40 

CORIO CP-450F

SW22, SW23, TW20

CORIO CD-B33

CF31

蝕刻(ke)槽(cao)的(de)溫(wen)(wen)度(du)在半導體工業中起著核心作用。蝕刻(ke)槽(cao)的(de)最小溫(wen)(wen)度(du)偏差已(yi)經會產(chan)生(sheng)災難性的(de)后果，并使整個晶圓(yuan)無法使用。因此(ci)，在濕(shi)化(hua)學加(jia)工中僅使用高精度(du)和故障安(an)全的(de)溫(wen)(wen)度(du)控制系(xi)統。它們必(bi)須能夠準確(que)地(di)將溫(wen)(wen)度(du)保持在目標范圍內(nei)，并對(dui)溫(wen)(wen)度(du)偏差做出快速(su)反(fan)應。此(ci)外，更換蝕刻(ke)液(ye)時，它們必(bi)須快速(su)恢復蝕刻(ke)槽(cao)的(de)正確(que)溫(wen)(wen)度(du)，以確(que)保恒定的(de)生(sheng)產(chan)流程。

JULABO溫度控制器可以減少生產時間